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工藝原理:加氫脫氧裝置以普氮為原料,經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經過濾除去氮氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。
除氧原理為:H2+O2→H2O
PSA事業部:
深冷空分事業部:
外貿部:
工藝原理:
加氫脫氧裝置以普氮為原料,經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經過濾除去氮氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。
加氫氮氣純化設備技術指標:
處理氣量:10-500Nm3/h
原料氮氣純度:≥99.5%產品氮氣純度:99.9995% O2≤5ppm H2:微量露點:≤-60℃產品氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa
工藝流程圖:
加氫氮氣純化設備主要技術參數表:
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